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| Spin Processor |
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| Q: どんな装置がありますか？ |
| A: ハイプレッシャー洗浄装置、レジスト塗布機、現像装置があります。 |
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| Q: 基盤のサイズは？ |
| A: Φ１"〜Φ８",□10mm〜、FPD用大型ガラス基盤です。 |
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| Q: 標準装置はありますか？ |
| A: 洗浄装置の推奨構成はありますが、塗布現像装置に関してはお客様の要望によりシステム化を行います。 |
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| Q: 自動化対応は可能ですか？ |
| A: ロボット搬送、個別対応の搬送システム、手置きのいずれも可能です。 |
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| ＊ 詳しくは担当者にお問い合わせください |
| エキシマ照射装置 |
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| Q: 対応基板サイズは？ |
| A: ランプの組み合わせによりΦ8",12"、FPD基盤では1500mmX1800mmまで対応します。 |
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| Q: 基板の搬送は？ |
| A: ロボット搬送、インライン方式、実験用の手置き式があります。 |
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| Q: 装置構成は？ |
| A: ウェット設備との組み合わせ、及び、独立装置になります。 |
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| Q: ユニット供給は可能でしょうか？ |
| A: ランプハウジングだけの対応も可能です。 |
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| ＊ 詳しくは担当者まで問い合わせください |
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