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【ハイプレッシャー洗浄装置】 Φ0.3μmのノズルより噴出される高圧水流により 表面の洗浄を行う。 特にコンタクト露光機用フォトマスク洗浄には 数多く導入されております。 洗浄対象：ウェハー、ガラス基盤、フォトマスク 高圧洗浄液：純水（CO2バブリング） 薬液：レジストストリッパー液、酸・アルカリ溶剤 リンス：純水、加温純水 |
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【レジスト塗布・現像・ベークシステム】 研究・開発用から試作製造ライン向けに お客様の用途に合わせた設計・ユニット 組み合わせにより最適のシステムを提供します。 搬送システム：全自動・手置き・多品種対応半自動搬送 対応基盤：丸ウェハー、角ウェハー、 ガラス基盤（大型基盤対応可能） |
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この製品は、ハル・プランネット株式会社との協力により販売しております。 |
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| 本製品に関するお問い合せE-mail: iuchi@itcj.com | |
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 本社／〒140-0013 東京都品川区南大井6-25-3 ビリーヴ大森2F Tel: 03-3762-2161 Fax: 03-3762-7786 E-mail: info@itcj.com |
